Forno de laboratório, isolamento de grafite (LHT GR)

A característica única da série de fornos de laboratório de alta temperatura LHT é um design compacto, tornando-o a ferramenta perfeita para laboratórios em ambientes de pesquisa e desenvolvimento.

O espaço útil cilíndrico do forno de laboratório é cercado por elementos de aquecimento e material de isolamento. A câmara aquecida é integrada ao vaso refrigerado a água. Como resultado do pequeno volume, o LHT é ideal para pequenas amostras e requer espaço mínimo de operação.

O sistema é suportado por uma plataforma de estrutura única que suporta o forno e gabinete eletrônico contendo os controles do software. Os rodízios são fixados à plataforma de suporte, o que permite que todo o sistema se mova facilmente. Para universidades e laboratórios de pesquisa industrial, a série LHT é perfeita para essas áreas operacionais.

As pequenas dimensões gerais e operação simples resultam em um sistema de baixo custo sem qualquer perda de desempenho na uniformidade de temperatura ou qualidade atmosférica. Além disso, o projeto cilíndrico é mais adequado para processos de tratamento térmico de sobre-pressão. Mediante solicitação, o sistema pode ser equipado com um dispositivo de travamento adequado e todo o equipamento necessário para operações seguras de sobre-pressão de até 100 bar.

O LHTG possui elementos de aquecimento e material de isolamento feito de grafite. Os modelos LHT baseados em grafite têm temperatura controlada por pirômetros. Um termopar de superaquecimento pode ser adicionado como uma opção, o que é altamente recomendado para operação autônoma. No ambiente de Argônio, a temperatura máxima é de 3000 ° C, o que requer o uso de um pirômetro para medir a temperatura da câmara. O pirômetro é combinado com o uso de um termopar deslizante para medir as temperaturas no início do processo, pois as temperaturas iniciais não são altas o suficiente para serem detectadas pelo pirômetro.

Exemplos de aplicação

Brasagem, carbonização, ruptura, desgaseificação, secagem, moldagem por injeção de metal (MIM), pirólise, prototipagem rápida, siliconização, sinterização, síntese, temperamento

Características padrão

  • Design compacto adequado para laboratórios
  • Melhor vácuo possível
  • Nível de vácuo <5 x 10-6 mbar
  • Pressão parcial 10 - 1000 mbar
  • Operação de sobre-pressão de até 100 bar possível
  • Carregador superior de alta temperatura até 3000 ° C com grafite
  • Operação de pressão parcial de hidrogênio sob demanda
  • Velocidades de bombeamento de vácuo precisamente controladas apropriadas para uso com pó
  • Registro de dados para gerenciamento de qualidade

Forno de laboratório, isolamento de grafite (LHT GR) Vista do interior do forno de laboratório LHT

  1. vaso refrigerado a água
  2. elementos de aquecimento
  3. tampa superior, operada manualmente
  4. termopar
  5. escudos de radiação no topo
  6. escudos de radiação no manto
  7. anel de curto circuito
Os modelos LHT são aquecidos por um único aquecedor de manta devido ao seu pequeno volume. O perfil de temperatura interno é melhor do que ± 10 K. Esta uniformidade é obtida por meio de engenharia cuidadosa e posicionamento do elemento de aquecimento.

O LHTG é baseado em elementos de aquecimento de grafite e material de isolamento. Se a temperatura mais alta de 3000 ° C for necessária, a espessura do isolamento e as camadas de isolamento de grafite devem ser projetadas especificamente para resistir a temperaturas extremas. A potência instalada também deve ser adaptada para atingir 3000 ° C com uma alta taxa de aquecimento. A cassete de aquecimento está rodeada por um recipiente refrigerado a água. O forno está equipado com todos os flanges, termopares, conexões elétricas e pirômetro necessários. O vaso é de parede dupla e resfriado a água para segurança. As conexões elétricas e os cabos elétricos também são refrigerados a água.

A operação do software está disponível com controles manuais ou automatizados. Para a versão manual, todas as válvulas e bombas são operadas por botões simples no painel do usuário com um rotâmetro usado para ajustar o fluxo de gás. O software automatizado é operado por meio de uma interface de painel de toque. Os controladores de fluxo de massa são usados ​​para regular o fluxo de gás. O registro de dados é possível para operação manual e automatizada.

Visão interna LHTG

Forno de laboratório, isolamento de grafite (LHT GR) Dados Técnicos

Material isolante Dimensões:
Externo A x C x P (mm)
Peso de transporte (kg) Espaço utilizável Volume (l) Ø x H, usable space without retort (mm) Ø x H, usable space with retort (mm) Valores térmicos Vácuo Tmax (°C) Pressão atmosférica Tmax (°C) -Delta-T, entre 500 ° C e 2200 ° C (K) de acordo com DIN 17052 Máx. taxa de aquecimento (K/min) Tempo de resfriamento (h) Valores de conexão Potência (kW) Voltagem (V) Corrente (A) Fusível série (A) Vácuo (opção) Taxa de vazamento - limpo, frio e vazio (mbar l/s) Faixa de vácuo dependendo da unidade de bombeamento Água de resfriamento necessária Fluxo (l/min) Máx. temperatura de entrada (°C) Fornecimento de gás Fluxo de nitrogênio ou argônio, outros a pedido (l/h) Controlador Manual de operação Operação automática
LHTG 100-200/22-1G Grafite 1800 x 1900 x 1000 780
1.5 100 x 200 90 x 200
2200 2200 ± 10 10 4
22 400 (3P) 3 x 55 3 x 63
< 5x10-3 vácuo rápido ou ajuste fino
20 23
50-500
TP1200 touch panel TP1900 touch panel, Siemens S7-1500 PLC
LHTG 100-200/30-1G Grafite 1800 x 1900 x 1000 1000
1.5 100 x 200 90 x 200
2200 3000 ± 10 20 5
40 400 (3P) 3 x 100 3 x 125
< 5x10-3 vácuo rápido ou ajuste fino
30 23
50-500
TP1200 touch panel TP1900 touch panel, Siemens S7-1500 PLC
LHTG 200-300/22-1G Grafite 1800 x 1900 x 1000 900
10 200 x 300 180 x 300
2200 2200 ± 10 10 5
45 400 (3P) 3 x 65 3 x 80
< 5x10-3 vácuo rápido ou ajuste fino
50 23
50-500
TP1200 touch panel TP1900 touch panel, Siemens S7-1500 PLC
LHTG 200-300/30-1G Grafite 1800 x 1900 x 1000 1500
10 200 x 300 180 x 300
2200 3000 ± 10 20 7
85 400 (3P) 3 x 120 3 x 160
< 5x10-3 vácuo rápido ou ajuste fino
75 23
50-500
TP1200 touch panel TP1900 touch panel, Siemens S7-1500 PLC

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